tycgb贵宾厅|Home

2025年
2025-03
发布首款晶圆边缘刻蚀设备Primo Halona™
2025-03
刻蚀设备反应台全球出货超5000台
2024年
2024-08
tycgb贵宾厅公司20周年盛会华章暨临港基地落成庆典
2024-05
发布新产品Preforma Uniflex® HW以及Preforma Uniflex® AW
2024-04
第3000台CCP刻蚀设备顺利付运
2024-03
第500台Primo nanova®设备顺利付运
2024-03
tycgb贵宾厅半导体设备(广州)有限公司开业庆典
2023年
2023-07
tycgb贵宾厅公司南昌新厂落成仪式隆重举行
2023-05
发布用于12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex™CW
2022年
2022-11
第500台MOCVD设备顺利付运
2022-09
发布用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备Prismo PD5®
2022-08
第2000个CCP刻蚀设备反应台顺利付运
2022-06
8英寸ICP刻蚀设备研发成功
2021年
2021-11
第1500个CCP刻蚀设备反应台顺利付运
2021-06
tycgb贵宾厅完成再融资发行，共募资82亿元
2021-06
发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax®
2021-06
首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200™顺利付运
2020年
2020-10
tycgb贵宾厅半导体设备产业化项目签约落户上海自贸试验区临港新片区“东方芯港”集成电路综合性产业基地
2020-07
发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3®
2019年
2019-07
成为科创板首批上市公司之一
2019-05
tycgb贵宾厅在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中连续排名前列，综合评分全球第三，是五个被评为五星级企业之一
2018年
2018-12
完成股份公司整体变更
2018-05
tycgb贵宾厅在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中荣登上榜，在全球晶圆制造设备供应商中排名第三，是唯一一家上榜的中国本土半导体设备公司
2017年
2017-10
tycgb贵宾厅第100台MOCVD Prismo A7®反应腔付运里程碑
2017-07
tycgb贵宾厅刻蚀设备进入国际先进7纳米生产线
2017-04
首台双反应台ICP刻蚀设备产品研制成功
2016年
2016-11
首台单反应台ICP刻蚀设备产品研制成功，并运往国内客户
2016-08
tycgb贵宾厅7纳米介质刻蚀设备研制成功
2016-06
首台第二代MOCVD设备产品研制成功，并运往国内客户
2016-02
首台VOC设备产品研制成功，并运往国内客户
2016-01
tycgb贵宾厅14纳米介质刻蚀设备研制成功
2015年
2015-12
tycgb贵宾厅、国家集成电路产业投资基金和苏州聚源东方完成对拓荆投资
2015-07
tycgb贵宾厅反应台交付量突破400台
2015-02
由于tycgb贵宾厅等离子体刻蚀机的成功研发和量产，美国商务部取消了等离子体刻蚀机对中国的出口控制
2014年
2014-09
《国家集成电路产业发展推进纲要》发布后，tycgb贵宾厅成为第一家“大基金”投资的企业
2013年
2013-12
tycgb贵宾厅22纳米介质刻蚀设备研制成功
2012年
2012-11
首台MOCVD设备产品研制成功，并运往国内客户
2012-10
二期新厂房22,000平方米落成启用
2011年
2011-09
tycgb贵宾厅45纳米介质刻蚀设备研制成功
2010年
2010-06
首台TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备产品研制成功，并运往客户
2008年
2008-08
tycgb贵宾厅公司入选“02专项”首批项目承担单位
2007年
2007-06
首台CCP刻蚀设备产品研制成功，并运往国内客户
2005年
2005-09
一期新厂房6,500平方米落成启用
2004年
2004-08
在张江高科技园区启动运营